ASML podnosi moc źródła światła EUV do 1000 W. Przepustowość fabryk wzrośnie o 50 proc. do 2030 roku

ASML zaprezentował technologię, która może na dobre zakończyć dyskusje o konkurencji ze strony amerykańskich i chińskich startupów. Inżynierom z kalifornijskiego ośrodka badawczego firmy udało się zwiększyć moc źródła światła EUV z obecnych 600 do 1000 watów, co przekłada się na potencjalny wzrost przepustowości fabryk chipów choćby o 50 proc. do końca dekady. To nie laboratoryjny eksperyment, ale gotowe rozwiązanie spełniające wszystkie wymagania produkcyjne.