Koniec monopolu ASML? Chiny zrobiły kolejny krok w stronę litografii EUV

1 godzina temu
Chiński startup Langdao Silex zaprezentował prototyp źródła światła EUV, które ma w przyszłości pomóc krajowemu przemysłowi półprzewodników uniezależnić się od zagranicznych dostawców (głównie od maszyn AML). Firma deklaruje, iż aż...
Idź do oryginalnego materiału